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一种光电办法丈量细小位移doc

发布时间:2023-03-18 1 次浏览

  PAGE PAGE 12 一种光电办法丈量细小位移 摘 要 高精度的丈量广泛的运用于微电子、超精加工、生物工程、未来医学、航天技能、材料科学、纳米操作等高技能产业中,且成为这些范畴的要害技能,也成为许多范畴不断前进的约束性要素。 干与的办法丈量长度是激光在几许量丈量中最重要的运用。以迈克尔逊干与仪为代表的光波干与法一直是公认的精细丈量长度和位移的有力手法。激光的呈现与展开给干与丈量长度供给了极好的相干光源,光波干与技能丈量逐步成为科研与出产中精细丈量的重要手法。可是丈量办法受限于光源单色性差和人眼计数的差错,再加许多其它客观外部要素的存在,很难核算干与条纹,然后构成很大的差错。 为了前进丈量的精确度,本文选用线阵CCD为条纹记载东西,通过后台电路,对干与条纹的图画进行剖析得到细小位移量。本文的首要研讨内容有: 线阵CCD的结构及作业原理。 迈克尔逊干与试验的剖析研讨,阐明运用激光干与丈量位移量的原理,规划出简略有用的干与丈量光路。 用规划的试验设备进行实践丈量,并对其丈量数据进行数据处理和成果剖析。 终究,依据试验成果,比对和剖析选用的试验办法的可行性和缺乏,并对后继作业提出一些需求改善和完善的当地。 要害词:细小位移,激光,干与条纹,干与条纹间隔,线阵CCD one ABSTRACT KEY WORDS: 目 录 TOC \o 1-3 \h \u 13144 前 言 1 6561 第一章 线阵CCD的数据收集体系剖析 3 5501 §1.1 CCD的分类 3 18097 §1.2 CCD的作业原理 4 29162 §1.2.1 光电转化 4 27701 §1.2.2 电荷的存储 5 8225 §1.2.3 电荷的搬运 6 6115 §1.2.4 电荷的检测 7 16956 §1.3 CCD的作业原理 8 27073 第二章 激光干与的原理介绍及丈量剖析 10 11573 §2.1 激光及激光干与 10 27589 §2.2 国内外关于高精度丈量技能状况 11 12414 §2.2.1 国外现状剖析 11 20360 §2.2.2 国内的研讨现状 12 8057 §2.3 CCD的作业原理 13 2662 §2.4 用激光干与丈量位移缺乏剖析 15 21389 第三章 运用干与和线阵CCD规划微位移丈量 17 19392 §3.1 试验丈量 17 21472 §3.2 试验丈量成果 18 26178 第四章 差错及影响条件剖析 20 30732 §4.1 体系差错 20 19538 §4.2 余弦差错 20 17730 §4.3 死区差错 20 285 §4.4 波长批改差错 21 438 §4.5 热胀大差错 21 10971 结 论 22 6225 参阅文献 23 6194 致 谢 25 30450 附录 26 前 言 计量科学技能的水平会集体现了一个国家科学技能展开的水平。计量科技水平越高,工业产品的质量就越好;计量测验精度越高,产品的功用越高,竞争力就越强。长衡量是最根本的几许量,长衡量的计量有着极为重要的含义。跟着人们知道的前进和科学技能的不断展开,高精度的丈量在微电子、超精加工、航天技能、材料科学等高技能产业中有着广泛的运用。成为许多范畴的要害性技能,一同也已成为许多范畴不断展开前进的约束性要素。无论是生物工程中的细胞操作、集成电路或光电子器材的加工等,这些都需求精确地丈量定位。 在20世纪70年代提出了精细、超精细加工。而这一概念的提出,就敏捷在美国、日本和英国等国家得到了注重和展开。各国都投入了很多的人力物力研发超精细丈量仪器。当时美国的水平最高,不只运用于中小型超精细仪器的加工,并且广泛的运用于国防和尖端技能的傍边。 干与法丈量长度是激光在几许量丈量中最重要的运用.以迈克尔逊干与仪为代表的光波干与法作为精细丈量长度和位移的有力手法,一直是公认的精度最高的检测手法。近代激光及激光技能的呈现与展开给干与丈量长度供给了极好的相干光源,光波干与技能丈量逐步成为科研与出产中精细丈量的重要手法。传统的迈克尔逊丈量办法受限于光源单色性差和人眼计数的差错对丈量的精度有很大的影响。 CCD(Charge Coupled Device,电荷耦合元件)于1969年由贝尔研讨所的 W.S.Boyle与G.E.Smith创造,并于次年宣布。因为CCD具有贮存信号电荷后 传输的功用,被广泛运用于内存,显现器,推迟单元等。在这今后的几年里,CCD敏捷展开老练,并逐步运用于图画传感器。通过几十年展开,CCD如今现已在摄像扫描等范畴占有重要方位,而线阵CCD在静态图画吸取方面运用十分广泛的运用。CCD线阵传感器因其能在一次曝光时刻内勘探必定波长规模内的一切谱线,在现代光谱丈量技能中获得了越来越广泛的运用。 本文以激光的干与的原理,运用线阵CCD收集数据。提出了一种图画剖析法丈量细小位移的办法,并对丈量的位移的差错进行剖析研讨。 第一章 线阵CCD的数据收集体系剖析 CCD(Charge Coupled Device,电荷耦合元件)于1969年由贝尔研讨所的W.S.Boyle与G.E.Smith创造,并于1970年宣布。因为CCD具有贮存信号电荷后传输的功用,被广泛运用于内存,显现器,推迟单元等。在这今后的几年里,CCD敏捷展开老练。要害运用的CCD图画传感器,运用称为桢搬运(Frame Transfer)办法(FT-CCD)的简略结构,于1971年也由贝尔试验室宣布。在电荷检测技能方面的FD(Floating Diffusion,浮置分散)电荷检测结构也于同年宣布。此外还有现在广泛运用的CCD图画传感器结构的IT-CCD(Interline Transfer,行间搬运)办法的结构于1972年宣布,而在信号处理的相关技能方面也开宣布了按捺CCD图画传感器信号内噪声的相关双采样(CDS:Correlated Double Sampling)电路(1974年)等技能。通过几十年展开,CCD如今现已在摄像扫描等范畴占有重要方位,而线阵CCD在静态图画吸取方面运用十分广泛。 §1.1 CCD的分类 CCD的分类办法有许多,最首要的有: 1、依成像颜色分为:五颜六色摄像机、是非摄像机。 2、依分辩率灵敏度等可分为:(1)印象像素在38万以下的为一般型,其间尤以25万像素(512*492)、分辩率为400线万以上的高分辩率型。 3、按CCD靶面巨细可分为:CCD芯片现已开宣布多种规范,但现在选用的芯片大大都为“1/3和1/4”。 4、按扫描制式分为 :PAL制、NTSC制。 5、依供电电源分为:110VAC、220VAC 、24VAC 、12VDC 、9VDC。 6、按同步办法分为: 内同步、外同步、功率同步、外VD同步。 7、依照度划分为:一般型 、月光型 、星光型 、红外型 。 §1.2 CCD的作业原理 CCD的作业能够分为四个方面来完结: (1)光电转化; (2)电荷的存储; (3)电荷的搬运; (4)电荷的检测。 其间光电转化与电荷的存储是在光电二极管中进行的,电荷搬运是在CCD移位寄存器中进行的,电荷检测是在FD扩展器中进行的。 §1.2.1 光电转化 光电转化便是将光信号转化成信号电荷。物理上的光电转化分为外部光电效应和内部光电效应。外部光电效应便是在固体外表的电子,承受光子的能量被释放到真空的幻想。而内部光电效应是半导体Si单晶中的电子承受光子能量从价带激发到导带的现象。CCD中光电转化归于光电二极管内Si衬底中的内部光电效应。用于CCD图画传感器的Si单晶材料,在室温下价带Ev与导带Ec的电势差约为1.1eV。此电势被称为禁带(Eg),如图1-1,只要能量大于此一能级的光子才干进行光电转化。光子能量E可由式1.1表明: (1.1) 通过核算,可知能量大于1.1eV禁带的光,波长大约在1100nm以下。所 以在Si单晶内能够进行光电转化的光波长最大约为1100nm,称为根底端。 图1-1 电 子 能 跃 迁 图 §1.2.2 电荷的存储 电荷存储便是收集光电转化所得的信号电荷,直到输出前的存储动作。根本思想是在光电二极管中制作出高于周围电势的高电势阱来存储电荷。以MOS结构、两头子电容器为例,其结构如图1-2所示。以P型Si为例,在P型Si衬底上通过氧化在外表构成层,然后在上淀积一层金属为栅极,P型Si里的大都载流子是带正电荷的空穴,少量载流子是带负电荷的电子,当金属电极上施加正电压时,其电场能够透过绝缘层对这些载流子进行排挤或招引,构成高于周围电势的电势阱。所以带正电的空穴被排挤到远离电极处,剩下不能移动的带负电的少量载流子在紧靠层构成负电荷层(耗尽层),这种现象便构成对电子而言的圈套,电子一旦进入就不能复出,到达存储电荷的意图。 图1-2 MOS 电容器 §1.2.3 电荷的搬运 能够说,电荷搬运才是CCD的功用。所谓Charge Coupled Device(电荷耦 合器材),本来指具有电荷搬运的功用元件,因为其首要运用在图画传感器方面,现在好像成了图画传感的代名词。 (a) (b) (c) (d) 为了了解CCD中势阱及电荷怎么从一个方位搬运到另一个方位,可调查图1-3中的四个互相靠得很近的电极。电荷初步存储在偏压为10V的电极(2)下边的深势阱里,其它电极上均加有大于某临界值电压的较低电压(例如2V),称为阈值电压。假如逐步将电极(3)的电压由2V增加到10V,这时(2)、(3)两个电极下面的势阱具有相同的深度,并合并在一同,原先存储在电极(2)下面的电荷,就在两个电极下面均匀散布,如图1-3(b)所示,然后,再逐步将电极(2)的电压降到2V,使其势阱深度下降,如图1-3(c)所示,这时电荷悉数搬运到电极(3)下面的势阱中,深势阱及电荷包向右移动了一个方位。通过将必定规矩改变的电压加到CCD各电极上,电极下的电荷包就能沿半导体外表按必定方向移动。一般把CCD电极分为几组,每一组称为一相,并施加相同的时钟脉冲。CCD内部结构决议其正常作业需求的脉冲。图1-3所示的结构需求三相时钟脉冲(图1-3d)。 §1.2.4 电荷的检测 电荷检测是将搬运的信号电荷转化成电信号的动作。实践运用的电荷检测办法可分为以下两种: (1)浮置分散扩展器; (2)浮置栅极扩展器。 简直一切CCD图画传感器都运用浮置分散扩展器,因此咱们仅对浮置分散扩展器进行阐明。 如图1-4所示为浮置分散扩展器的结构,相邻移位寄存器终究段的PN结二极管结构,在施加逆向偏压得状况下,构成一电容器。电容器两头的电压改变与存储电荷量成正比,其两头电压改变可由式1.2核算, (1.2) 式中:Q ——为搬运过来的信号电荷量; ——浮置分散区有关的总电容。 因为此PN结二极管的N型区域呈现浮游状况,故称浮置分散(FD)。当CCD电荷搬运过来时,衔接此处的扩展器将电压信号缓冲扩展输出。每次检测完一个像素的信号电荷,鄙人一个信号电荷搬运过来前,有必要复位FD中的信号电荷。通过在复位栅(RG:Reset Gate)端加复位脉冲φRG,使复位栅导通,把浮置分散区剩下电荷抽走,复位到复位漏极(RD:Reset Drain)的电压。衔接于FD的扩展器,一般是与CCD做在同一个硅片上的MOS晶体管的源极跟从器。 浮置分散扩展器为破坏性的一次性输出,检测结束后,信号电荷便由RD吸收消失,无法再被运用。 浮置栅极扩展器能够完结非破坏性检测,因其扩展管栅极不是直接与信号电荷的搬运沟道相连,而是与沟道上边的浮置栅相连,通过浮置栅感应出搬运到其下的信号电荷的镜像电荷来操控栅极电位。因为检测电极与送来信号电荷的搬运沟道的电容耦合,比较于浮置分散扩展器搬运功率偏低。 图1-4 浮置分散扩展器载面结构 §1.3 CCD的作业原理 CCD的首要功用指标有:呼应度、光谱呼应度、动态规模、分辩率、噪声等。 (1)呼应度:CCD的呼应度能够界说为单位曝光量所得到的有用信号电 ()也便是说,在必定的相面照度下,呼应度的巨细等于有用信号电压与其曝光量之比值。呼应度的巨细反映了CCD像元的灵敏度和输出级的电荷/电压转化才能。影响呼应度的要素,包含光电二极管的量子功率、微镜头(为前进呼应度而在像素上方做成相似聚光透镜的细小结构)的集光功率、FD扩展器的转化功率及像素规范。 (2)光谱呼应度:光谱呼应特性表明CCD关于各种单色光的相对呼应才能,其间呼应度最大的波长称为峰值呼应波长。一般把呼应度等于峰值呼应的50%所对应的波长规模称为光谱呼应规模。光谱感光度特性首要由光电二极管外表的反射与Si的光吸收特性所决议。因为波长较短的光,经Si外表的保护膜等吸收或反射后,导致光量衰减,因此CCD在短波段呼应度偏低。此外一般光学玻璃在紫外段对光的吸收较大,也约束了玻璃窗CCD在紫外段的呼应。现在市售的大部分CCD器材的光谱呼应规模在400nm~1100nm左右。 (3)动态规模:动态规模界说为饱满信号量与噪声之比,实践CCD器材的动态规模常界说为一切有用像素中最小饱满输出电压和一切有用像素中最大暗信号电压之比。 (4)分辩率:分辩率便是CCD能分辩多细的图画信息。常用调制传递函数MTF来点评。一般来说像素越多,分辩率越高。扫描用的线阵CCD的第二位分辩率则取决于扫描速度与CCD光敏单元的高度等要素。 (5)噪声:分为随机噪声和固定图形噪声。 1)随机噪声 随机噪声是与输出的图形方位无关的噪声。CCD本身产生的典型随机噪声有如下四种:a、暗电流散粒噪声;b、FD复位噪声;c、FD扩展器噪声;d、光散粒噪声。 以上四种随即噪声中,关于近年来的高功用CCD,其均匀暗电流被按捺得很小,暗电流散粒噪声根本能够疏忽,而FD复位噪声可由电路操控,因此首要需求考虑的是FD扩展器噪声的影响。假如往后前进FD扩展器的MOS晶体管功用,使其小于光散粒噪声,光散粒噪声将成为首要的噪声源,这表明随机噪声挨近物理的极限。 2)固定图形噪声 a光电二极管的暗电流、b搬运劣化、c像素感光度不均匀 这三种固定图形噪声中,暗电流噪声带来的影响最严峻,其噪声电压值 遭到温度与存储时刻的影响。在光谱丈量中,暗电流噪声理论上能够通过在信号光谱收集前,先进行一次无光的暗收集,然后收集信号光谱,然后将信号光谱采得的各点值减去暗收集的各点值来消除。 第二章 激光干与的原理介绍及丈量剖析 激光器是六十年代初期呈现的一种新式光源,激光器的呈现为精细计量范畴中创始了新局面。在激光呈现曾经,用一般光源制成的干与仪因为相干性差,亮度低,只能用于在试验室中进行比较丈量。这也使得干与仪没有广泛运用于精细的丈量。自1960年氦氖激光器呈现今后,激光光源以其单色性、高亮度、很好的空间相干性和时刻相干好等功用,使得干与测长技能取得了很大的开展,因此激光的呈现为精细丈量供给了一种新的思路办法。 §2.1 激光及激光干与 激光的初步的中文名叫做“镭射”、“莱塞”,是它的英文名称LASER的音译,是取自英文Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation的各单词头一个字母组成的缩写词。意思是通过受激发射光扩展。激光的英文全名现已彻底表达了制作激光的首要进程。1964年依照我国闻名科学家钱学森主张将“光受激发射”改称“激光”。 激光具有高强度、高度方向性、空间同调性、窄带宽和高度单色性等长处。现在运用激光干与原理丈量长度常用首要是以迈克尔逊干与仪为主,并以稳频氦氖激光为光源,构成一个具有干与效果的丈量体系。激光干与仪可合作各种折射镜、反射镜等来作线性方位、速度、视点、真平度、真直度、平行度和笔直度等丈量作业,并可作为精细东西机或丈量仪器的校对作业。运用激光干与原理丈量已有广泛的运用。 §2.2 国内外关于高精度丈量技能状况 §2.2.1 国外现状剖析 如下表所示为纳米级其他丈量体系的功用比较,由此能够看出国外在这方面的研讨现状。 表2-1 纳米级丈量体系功用表 产品 分辩率(nm) 精度(nm) 丈量规模(nm) 丈量速度(nm/s) 双频激光干与仪 0.600 2.00 1×1012 5×1010 光外差干与仪 0.100 0.10 5×107 2.5×102 F-P规范具丈量仪 0.001 0.001 5 5~10 X射线.0 5×107 1×106 扫描隧道显微镜 0..50 0.050 3×104 10 从表中咱们能够看出F.P规范具丈量仪的精度与分辩率是最佳的,均可到达0.001m,但其丈量规模则仅有5nm,并且其丈量速度是适当缓慢的。而双频激光干与仪、光外差干与仪及衍射光栅的分辩率和精度也可到达纳米,一同其丈量规模大,丈量速度较快,因此运用较多。 在国外,分辩率到达1nm的可进行线性位移丈量的激光干与体系已用于商业运转中,并且分辩率高于1nm的激光干与丈量体系也在研讨中。现在国际上有三种比较典型且己很老练的激光干与仪:美国HewlettPackard公司出产的HP系列双频激光干与仪、美国Zygo公司研发的用于DSW光刻机X、Y作业台直线及角位移丈量的双频激光干与丈量体系、英国Renishaw公司的激光校准体系。表2-2是一些国外首要的一些干与丈量体系比照状况表。 表2-2国外首要激光干与丈量体系厂家的产品及功用指标 序号 类型 激光率(mW) 分辩率 (nm) 精度 (μm) 丈量速度(m/s) 出产 厂家 国家 1 SP125 15 0.635 2.54×10-3 美国 2 ML10

  1 1.0 0.1 1 renishaw 美国 3 axiom/20 1.25 0.01 1.8 zygo 美国 4 lddm 10 0.1 0.45 optodyne 美国 5 hp5527b 1 10 0.1 hp 美国 6 hp5529 1 10 0.1 hp 美国 7 l-im-10a 1 10 0.1 tsk 日本 8 mi500 1 0.6 0.4 sios 德国 §2.2.2 国内的研讨现状 我国于70年代初步了激光丈量体系的。1975年由我国计量科学研讨院与陕西机械学院一起研宣布我国每一台国产双频激光干与仪样机,量程为60m,丈量精度为0.5μm。到现在为止,清华大学、哈尔滨工业大学、华中理工大学、天津大学等也相继展开了对激光干与仪及相关技能的研讨。成都东西研讨所已出产出带有丈量空气参数设备并进行差错补偿的(见表1.4)。还有清华大学研宣布的光纤偏振光干与仪其丈量精度优于5.52nm 。由上海光机所研发的半导体干与仪的丈量扩展到125.56μm的状况下,仍可到达1.2nm的重复精度,为大规模内进行纳米精度丈量成为可能。 表2-3 mjs系列双频激光干与仪技能指标 仪器准确度 (1)±(r+0.01l)μm(真空)(r为分辩率,l单位为米) (2)±1.5ppm(运用mjss460波长补偿器) 分辩率 (1)0.16μm(mjs5a型) (2)0.08μm(mjs5b型) (3)0.02μm(mjs5c型) 最大丈量速度 300mm/s 速度丈量准确度 ±0.1%显现值 最大丈量间隔 20m §2.3 ccd的作业原理 he-ne激光器归于原子激光器类,能产生许多可见光的激光谱线,多选用接连作业办法,其输出功率多在2mw~10mw之间,he-ne激光器输出激光的方向性好,一般在光束直径为lmm的状况下,输出功率和波长能操控得很安稳,其波长安稳性高达量级。 he-ne激光器输出激光的高安稳性,很合适用于在干与试验顶用作相干光源光源。 本试验规划的激光干与丈量长度的试验原理为: 把方针反射镜和被测物体固定起来,参阅反射镜不动。当方针反射镜随被测目标移动时,两光路呈现光程差,干与条纹将产生明暗替换的改变。用光电勘探器接纳,当被测的物体移动过必定间隔时,干与条纹将替换呈现亮暗改变,能够用光电勘探器调查记载数据。对记载的数据进行剖析能够得出移动的位移量。如图2-3所示为规划的干与原理丈量的位移的根本原理图。 图2-3 激 光 干 涉 原 理 图 如图2-4所示,丈量初步时,一束激光通过扩束镜和分光镜将光分红两束,它们经固定反射镜c和可移动被测物体b上的反射镜后沿原路回来,并在分光点从头相遇,两束光的光程差为: (2.1) 丈量时,可移动被测物体b移动,当移动到方位时,物体间隔分光镜的间隔为,被测物体移动了l的间隔。此刻的的光程差为: (2.2) 在丈量前后进程中,总的光程差为: (2.3) 光程差每改变一个波长,干与条纹就会呈现明暗替换将改变一次,丈量进程中与光程差△相对应的干与条纹改变次数为k: (2.4) 图 2-4 光 程 差 测 量 当测得干与条纹的改变次数k之后,便可由上式求得被测长度l。在实践丈量中,当丈量初步时使计数为0,丈量结束时记住数字k的值就为是被测长度l相对应的条纹数k。则由2.4式能够得出移动的位移量的核算表达式: (2.5) §2.4 用激光干与丈量位移缺乏剖析 激光的呈现与展开给用干与的原理丈量长度供给了极好的相干光源。干与的办法丈量因其丈量的精度比较高,在丈量细小位移和细小规范的时遭到喜爱,在其他范畴也得到广泛的运用。 相干法测位移尽管丈量的精度比较高,但在丈量时也存在着许多的问题。问题首要会集在: 1、相干法位移丈量运用难以推行,首要受限于怎么精确地计量干与条纹移动的条数; 2、怎么勘探激光干与条纹干光源的中心及半径; 3、 激光干与丈量很简略受环境温度、大气压力、湿度、大地振荡、机械变形、电子和机械噪音等外界环境的影响,怎么减小外界环境对丈量成果的影响这是至关重要的; 运用范畴的受限,应该怎么推行运用到其他范畴。 第三章 运用干与和线阵ccd规划微位移丈量 激光干与的法丈量细小位移的精度尽管高,但存在着许多的问题,本课题规划的运用图画剖析法丈量细小位移的办法,用线阵ccd作为记载干与条纹移动的条数,然后由记载的图画知道条纹移动的量。这样能够减小丈量差错,前进丈量精度。 §3.1 试验丈量 如图4-1所示,为运用线阵ccd丈量细小位移的原理图。运用规范波长为632.8nm为he-ne激光器作为光源,初步试验时激光通过扩束镜和分束镜和可移动被测物体反射镜后,构成了干与条纹。干与条纹由线阵ccd进行收集。收集后直接由后台处理电路进行处理。 图3-1 运用干与和ccd丈量细小位移设备原理图 丈量时,移动可移动被丈量物体,固定在能够动被测物体上的反射镜反射的光和固定反射镜反射的光构成干与条纹,此刻线阵ccd就会记载收集的图画信息。当移动被丈量物体时,记载移动的明暗条纹数。 3-2 激 光 干 涉 图 如图3-2和图3-3所示为线阵ccd收集到从显现设备中看到的信号图画。其间图3-2为激光的干与图样,3-3表明干与进程中的光强散布图。 图4-3 干 涉 光 强 分 布 图 丈量时记载一固定方位移动的条纹条数或许某一方位移过的光强的波峰个数,由公式能够核算出移动的位移。 §3.2 试验丈量成果 白日丈量数据表 编号 实践位移量(mm) 记载条纹数 核算出的位移量(mm) 差错(mm) 1 0.01 32 1.01248×10-2 0.0001248 2 0.02 65 2.0566×10-2 0.000566 3 0.05 161 5.09404×10-2 0.0009404 4 0.10 323 1.021972×10-1 0.0021972 5 0.20 641 2.028124×10-1 0.0028124 6 0.50 1599 5.059236×10-1 0.0059236 7 1.00 3201 1.0127964 0.0127964 8 2.00 6411 2.0284404 0.0284404 9 5.00 16027 5.0709428 0.0709428 10 10.00 32073 10.1478972 0.1478972 夜晚丈量数据表 编号 实践位移量(mm) 记载条纹数 核算出的位移量(mm) 差错(mm) 1 0.01 31 9.8084×10-2 -0.0001916 2 0.02 63 1.99332×10-2 -0.0000668 3 0.05 157 4.96748×10-2 -0.0003252 4 0.10 319 1.009316×10-1 0.0009316 5 0.20 639 2.021796×10-1 0.0021796 6 0.50 1594 5.043416×10-1 0.0043416 7 1.00 3200 1.01248 0.01248 8 2.00 6403 2.0259092 0.0259092 9 5.00 15997 5.0614508 0.0614508 10 10.00 31998 10.1241672 0.1241672 第四章 差错及影响条件剖析 激光干与法是经典的长度计量法。激光干与的办法在长度丈量范畴中已得到广泛运用,但在高精度位移丈量顶用的激光干与仪要求具有高安稳性、高分辩率和高精度,因用激光干与的办法丈量长度的进程中将会遭到设备本身的精度、环境改变、外界振荡及噪声等影响。在丈量进程中会遭到以下五大丈量差错的影响:激光干与仪器的体系差错、余弦差错、死区差错、波长批改差错及被测物件的热胀大差错。 §4.1 体系差错 单频激光干与的丈量功用怎么首要是取决于激光波长的安稳程度和强度的安稳程度。激激光波长差错包含了激光波长准确度和波长安稳度这个双面。要削减体系差错带来的差错影响,就有必要削减环境对激光波长及强度的安稳程度的影响,有必要尽量削减死区长度,改善环境条件(如坚持温度湿度安稳等)。 §4.2 余弦差错 单频激光干与的丈量功用怎么首要是取决于激光波长的安稳程度和强度的安稳程度。激激光波长差错包含了激光波长准确度和波长安稳度这个双面。要削减体系差错带来的差错影响,就有必要削减环境对激光波长及强度的安稳程度的影响,有必要尽量削减死区长度,改善环境条件(如坚持温度湿度安稳等)。 §4.3 死区差错 因为反射镜和可移动被测物体在设备时不行能紧凑地设备在一同,两者间必然会相隔一段间隔,这段间隔被称为死区。一同,死区长度在不同的丈量进程是不同的,因此不行能在波长批改及线性胀大批改善程中消除。死区是曝露在空气中的一段间隔,激光通过死区将会遭到大气温度、大气压及湿度的影响。当死区存在时,死区给丈量带来的差错存在如下联系(其间ld 表明反射镜和可移动被测物体之间的间隔巨细): 大气温度改变l℃时,带来的差错为:±ld×10-6; 大气压改变3.3hpa时,带来的差错为:±ld×10-6; 大气相对湿度改变70%时,带来的差错为:±ld×10-6; §4.4 波长批改差错 大气中激光波长将会遭到大气温度、大气压及大气湿度等影响,当然还会受气流的影响,但气流活动是一个随机量无法进行人工补偿,当气流影响存在时,核算机输出的值将会不很安稳,不过气流是易于消除,只需将丈量设备置于一个关闭环境中,即可消除其带来的影响。可是,大气温度、大气压及大气湿度等的改变是缓慢但不易操控的,若要坚持恒温、恒压及恒湿的环境是十分困难的,价值太大而影响其有用性。因此,波长批改(又称为空气参数补偿)在激光干与丈量中是一项十分重要的作业。 因为温度、大气压及湿度传感器的丈量精度所限,对激光波长批改后仍然存在波长批改差错如下(其间lm丈量移动的位移): 大气温度改变1℃时,带来的差错为:±lm×10-6: 大气压改变3.3hpa时,带来的差错为:±lm×10-6; 大气相对湿度改变70%时,带来的差错为:±lm×10-6。 §4.5 热胀大差错 关于物体而言,均存在着热胀冷缩现象,这一现象导致同一物体在不同温度下的长度值不同,那么就有必要选用规范温度作为基准就不同湿度下测得值折算成同一温度下的可比值,一般选用20 ℃作为基准。因为热胀大现象不只效果于工件还影响着作业台,因此存在两项热胀差错,即:工件热胀大差错和作业台热胀大差错。 结 论 很多程、高精度、高分辩率、低成本的微位移丈量体系,具有重要的现实含义。干与的办法丈量用于高精度的丈量已得到了我们的认可。 本课题是一种根据激光干与条纹和线阵ccd的细小位移丈量试验。运用的传统的干与光路构成干与条纹,运用高分辩率的线阵ccd作为收集图画的仪器,收集得到干与图样和光强散布图。记载当有位移时,某一固定的方位移动干与条纹的条数或许光强散布的波峰个数。运用公式核算出移动的细小位移的巨细。通过试验验证,此种运用激光干与的办法进行细小位移的丈量的办法,试验办法操作简略便利,切实可行。与传统的迈克尔逊干与的办法比较,因为记载的条纹办法的改善,丈量的精度有了必定的前进。 但作为试验体系,尽管硬件结构简略,光路调试简略,丈量精度有必定的前进,可是还有许多需求改善的当地。如:进一步改善记载条纹的办法,细化条纹,前进干与光源的安稳性,减小五大差错对试验的的影响,以便进一步前进试验精度,运用到更多的高精度的丈量范畴傍边。 参阅文献 [1] 韩旭东,艾华,龙科慧.一种新式单频激光干与体系的研讨[j].光电工 程,2002,29(5),49-51 [2] 李向荣,王安敏,周桂莲.根据快速傅里叶变换的条纹图画处理研讨 [j].光学技能,2007,33(4),171-172 [3] 张淼,唐芳,李华.根据迈克耳孙干与仪的激光多普勒试验仪及其试验[j]. 物理试验,2007,27(4),9-12 [4] 赵育良,张忠民.激光干与微位移丈量体系准确度剖析[j].水兵航空学院,传感器技能,2002,35 -37 [5] 付继武,徐旭明,一种运用激光干与条纹位相进行微位移丈量办法[j].南昌大学2003, 27(3), 299-302 [6] 薛巍,.一种低成本线阵ccd驱动与收集处理体系的研讨 [j].西安交通大学电子物理与器材教育部要点试验室.2008,34(z1) 190~193 [7] 李书民,唐军.运用迈克耳孙干与仪研讨压电陶瓷的特性[j].物理实 验.2008,28(6),24-43 [8] 赵育良,许兆林,李初步.根据ccd的激光微位移丈量体系研讨[j].激 光技能,2003,27(1),73-75 [9] 赵辉,浦昭邦,刘国栋.根据双频激光干与技能的高精度直线度基准设备[j].我国激光.2001.7,28(7),637-640 [10] 吕海宝.激光光电检测[m].长沙:国防科技大学出版社,1999.131-154 [11] 费业泰.差错理论及数据处理[m].北京,机械工业出版社,2004.122-128 [12] 王挑选,郭军,谢铁邦.以正交衍射光栅为计量规范器的二维微位移 作业台[j], 光学精细工程,2003(05),36-40 [13] 王挑选,郭军,谢铁邦.精细衍射光栅信号的椭圆拟合与细分校对算法[j].上具技能,2003(12),301-360 [14] 万德安.激光基准高精度丈量技能[m],北京:国防工业出版社,1999, 141-174 [15] beer r,marjanidmi d.wavefronts and construction tolerances for a cats -eye retroreflector .appl opt 1966,5(7),1191-1197 [16] snyder jj .paraxial ray analysis of a cats-eye retroreflector .appl opt 1975, 14(8),1825-1828 [17] 章海涛.高精度定位渠道的标定及补偿技能研讨,上海大学, 2005年硕士论文 [18] 楚兴春.纳米光栅干与位移丈量要害技能的研讨.国防科技技能大学, 2005年博士论文 [19] 夏若彬.ccd光谱丈量体系的数据收集及信号数字化处理.浙江大学.2007年硕士论文 [20] 周欣.测验计量技能及仪器.天津大学.2005年硕士论文 致 谢 本论文是在导师闫海涛教师的严格要求和尽心指导下完结的。从选题到研讨思路的确认,材料的收集到布局谋篇,从内容结构到终究成文,闫教师给了

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